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随着现代激光标刻应用领域的不断扩展,对激光制造的设备系统小型化,和集成化的要求也越来越高,新型高功率光纤激光技术的开发成功,必将对此产生极大的推动。掩模式打标又叫投影式打标。掩模式打标系统由激光器、掩模板和成像透镜组成,其工作原理,经过望远镜扩束的激光,均匀的投射在事先做好的掩模板上,光从雕空部分透射。控制系统在激光打标领域就经历了大幅面时代、转镜时代和振镜时代,控制方式也完成了从软件直接控制到上下位机控制到实时处理、分时复用的一系列演变,如今,半导体激光器、光纤激光器、乃至紫外激光的出现和发展又对光学过程控制提出了新的挑战。
激光能标记何种信息,仅与计算机里设计的内容相关,只要计算机里设计出的图稿打标系统能够识别,那么打标机就可以将设计信息的还原在合适的载体上。因此软件的功能实际上很大程度上决定了系统的功能。激光打标设备的是激光打标控制系统,因此,透明防护板镭射打标,激光打标的发展历程就是打标控制系统的发展过程。从1995年到2003年短短的8年时间。由于看到大幅面系统的一系列缺点,在高速振镜技术还没有在中国广泛普及的情况下,一些控制工程师自行开发了由步进电机驱动的转镜式扫描系统。
掩模板上的图形通过透镜成像到工件(焦面)上。通常每个脉冲即可形成一个标记。受激光辐射的材料表面被迅速加热汽化或产生化学反应,发生颜色变化形成可分辨的清晰标记。工作原理是将从谐振腔中导出的激光通过扩束,经过成90°安装的两个步进电机驱动的金镜的反射,由F-theta场镜聚焦后输出作用于处理对象上。直接用绘图软件输出打印命令即可驱动光路的运行,这种方式明显的优势是幅面大,而且基本上能满足精度比较低的标刻要求,不需要的标刻软件。
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